Hf elementi bileşiklerinin X-ışını fluoresans parametreleri üzerine kimyasal etki

Abstract

Bu çalışmada Hf bileşiklerinde K ve L tabakasına ait fluoresans tesir kesitleri veverimleri, K X-ışını ve L X-ışını şiddet oranları üzerine kimyasal etkiler araştırılmıştır.57Numuneler Co radyoizotop halka kaynağından yayımlanan 123,6 keV enerjiliγ-ışınları ile uyarılmıştır. Numunelerden yayımlanan karakteristik K ve L X-ışınlarırezolüsyonu 5,9 keV'de 150 eV olan Ultra-LEGe dedektörü ile sayılmıştır.Şiddet oranlarında kimyasal yapıdan en fazla Lγ/Lα şiddet oranı ifadesinin etkilendiğigözlenmiştir. Ayrıca K ve L tabakası fluoresans verimleri ve tesir kesitlerinin kimyasalyapıdan etkilendiği tespit edilmiştir.Elde edilen değerler diğer araştırmacıların teorik ve deneysel değerleri ilekarşılaştırılmıştır. In this study, chemical effects on K and L shell fluorescence cross-sections andyields, K, L X-rays intensity ratios of Hf compounds were investigated.57The samples were excited by 123,6 keV γ-rays emitted from Co radioisotopesource. K and L X-rays emitted from samples were counted by means of Ultra-LEGedetector which has the resolution 150 eV at 5,9 keV.In intensity ratios, it was observed that Lγ/Lα intensity ratio was affected mostly dueto chemical structure. In addition, it was determined K and L shells fluorescence yields andcross-sections are affected by chemical structure.Measured results are comparatively given with the theoretical and experimentalresults of the other researchers.